Расчет слоевых сопротивлений биполярного транзистора
⇐ ПредыдущаяСтр 3 из 3
Слоевые сопротивления для базовой и эмиттерной областей рассчитываем по следующей формуле:
, (9)
где q = 1.6ּ10 -19 Кл – заряд электрона; N(x,t) – распределение примеси в данной области транзисторной структуры; μ(N(x,t)) – зависимость подвижности от концентрации примеси.
Зависимость подвижности от концентрации примеси определяется по формулам:
(10)
(11)
Таким образом, слоевое сопротивление эмиттера рассчитываем по формуле:
, (12)
где NЭМ(x,t) – распределение примеси в эмиттере рассчитанное по формуле 5.
Теперь произведём расчёт слоевого сопротивления базы по формуле:
, (13)
где NБАЗ(x,t) – распределение бора в базовой области рассчитанное по формуле 1. Для расчёта слоевых сопротивлений воспользуемся пакетом программ Mathcad 5.0 Plus, в результате расчёта получили следующие значения слоевых сопротивлений: = 7.16 Ом/кв; = 795 Ом/кв. Произведём также расчёт слоевых сопротивлений для двух крайних значений, определённых с точностью поддержания температур при легировании области эмиттера Т=±1,5°С. В результате расчётов получим следующие значения слоевых сопротивлений: при Т = 1101,5°С = 6.07 Ом/кв. при Т = 1098,5°С = 7.37 Ом/кв. Затем с помощью программы Biptran рассчитаем параметры моделей транзисторов при номинальной температуре и для двух крайних значений, определённых с точностью поддержания температур при легировании области эмиттера Т=±1,5°С. В результате расчётов получаем следующие модели транзисторов (см. Приложение). Расчет основных параметров инвертора
Схема инвертора представлена на рисунке 3.
Рисунок 3-Схема инвертора
В данной курсовой работе необходимо определить следующие параметры инвертора: · напряжение логических уровней; · пороговое напряжение; · времена задержки; · помехоустойчивость схемы; · среднюю потребляемую мощность. Прежде чем приступить к расчету основных параметров инвертора, учтем влияние технологического процесса на номиналы резисторов. В данной работе мы будем выполнять высокоомные резисторы на основе базового слоя, а низкоомные на основе эмиттерного слоя, то естественно, что изменение температуры будет сказываться на номиналах резисторов.
Это связано с тем, как было описано выше, слоевое сопротивление изменяется с изменением температуры. Учитывая все выше сказанное и выражение: , где: l,b – геометрические размеры резисторов. Тогда: , где: R’ – сопротивление с учетом температуры.
Таблица 4 – Сопротивления резисторов при различных температурах
При сравнении номиналов резисторов можно сделать вывод, что при увеличении температуры номиналы резисторов уменьшаются, а при уменбшении-увеличиваются. Напряжение логических уровней определяем по передаточной характеристики ТТЛШ – инвентора, построенной при помощи пакета программ Pspice, которая представленаа в Приложении. Напряжения логических нулей равны: U° =B; U' =B.
Для того, чтобы найти пороговое напряжения необходимо продифференцировать , тогда в соответствии с Приложением:
U°пор = 0.5B, U'пор = 1.73B.
Зная напряжения логических уровней и пороговые напряжения, можно определить помехоустойчивость схемы:
Uпом = min(U0пом,U1пом)
U0пом = U0пор – U0
U1пом = U1 – U1пор
U0пом = В
U1пом
Uпом = В
Время задержки легко определить, сравнением входного и выходного импульсов (Приложение) = В
Средняя потребляемая мощность определяется из графика в Приложении 10:
Таким образом, получим потребляемую мощность:
При расчёте выяснилось что у схемы маленькая помехоустойчивость. В связи с этим рекомендуется уменьшить сопротивление коллекторов у выходных транзисторов схемы (Q4 и Q5). Это приведёт к уменьшению напряжения логического нуля, что в свою очередь приведёт к повышению помехоустойчивости схемы.
Заключение
В ходе данной работы было произведено сквозное проектирование ТТЛШ – инвертора. В результате были рассчитаны параметры биполярного транзистора. Профили распределения примесей в биполярной структуре представлены на графиках в Приложениях 1,2,3, а модели транзисторов в Приложении 6. Кроме того мы рассчитали такие параметры ТТЛШ – инвертора, как напряжение логических уровней, пороговые напряжения, помехоустойчивость схемы, время задержки, среднюю потребляемую мощность. Результаты расчётов представлены в пункте 3 и приложениях 7,8,9,10. Полученные результаты удовлетворяют требованиям ТТЛШ – микросхем. Расчёты представленные в этой работе являются приближёнными, так как для более точных расчётов необходимы более мощные средства автоматического проектирования. В ходе работы мы пренебрегли процессами сегрегации примеси при окислении, а также зависимостью коэффициента диффузии от концентрации. В результате работы мы получим математическую модель технологического процесса ТТЛШ –инвертора. Список используемой литературы 1 Курносов А.И., Юдин В.В. Технология производства полупроводниковых приборов.- Москва.: Высшая школа, 1974. – 400с.: ил. 2 Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА: Учебное пособие для вузов.- Москва.: Высшая школа, 1982. 224 с.: ил. 3 Матсон Э.А. Крыжановский Д.В. Справочное пособие по конструированию микросхем. –Мн.: Высшая школа, 1983. –271 с.: ил. 4 Коледов Л.А. Конструирование и технология микросхем. курсовое проектирование: Учебное пособие для вузов.- Москва.: Высшая школа, 1984. –231с.: ил.
Воспользуйтесь поиском по сайту: ©2015 - 2024 megalektsii.ru Все авторские права принадлежат авторам лекционных материалов. Обратная связь с нами...
|