И затем загерметизировали камеру установки.
После загрузок подложек в установку и ее загерметизации мы производили процесс напыления резистивного слоя, для этого: 1. Создали в камере предварительный вакуум, давление не более (1-5)*10-2 мм рт. ст./(1-6,5)Па; 2. Обеспечили подачу азота в азотную ловушку; 3. Открыли шибер диффузионного насоса и включили вакуумметр; 4. Затем создали в камере предельный вакуум, давление не более 5*10-5 мм рт. ст./6*10-3 Па; 5. Далее выключили подачу воды на камеру; 6. Включили подачу холодной воду на камеру; 7. Затем мы включили привод вращения барабана с загруженными подложками; 8. Включили нагреватель, нагрели до температуры необходимой для напыления, при этом выдержали не менее пяти минут. (24+-2)мА температура устанавливается по значению тока соответствующего измерительного прибора; 9. Произвели выключение нагревателя; 10. Затем мы закрыли дросселирующую заслонку вращением вала на 1,5 оборота; 11. Далее падали в камеру с помощью натекателя аргон и, контролируя по показаниям вакуумметра, установить рабочее давление для напыления резистивного слоя: р=(4+-2)Па 12. Установили тумблер питания магнетрона в положение Rs и включили магнетрон; 13. Выставили требуемые режимы напыления резистивного слоя в зависимости от удельного сопротивления, указанные в таблице 5, и тренировали мишень при закрытой рабочей заслонке в течение (3+-1) минут. В случае перерыва работы установки более трех суток время тренировки мишени необходимо увеличить на 3-6 минут. Таблица 5. Режимы напыления слоев
14. Открыли рабочую заслонку, произвели напыление резистивного слоя (сплав РС-3710) до заданной технологом величины сопротивления «свидетеля», после чего закрыли заслонку. Во время напыления мы поддерживали вакуум и стабильность рабочих режимов напыления;
15. Затем мы включили магнетрон, и установили тумблер питания магнетрона в положение ВЫКЛ; 16. Отключили подачу аргона в камеру, открыли дросселирующую заслонку; 17. Далее мы включили нагреватели, нагрели подложки до температуры стабилизации (34+-2)мА и выдержали их при этой температуре в течении 20-30 минут. Температура устанавливается по закону тока соответствующего измерительного прибора; 18. Выключили нагреватель; 19. Затем закрыли подачу холодной воды не менее через 20 минут после выключения нагревателя; 20. Отключили подачу азота в азотную ловушку, закрыли шибер, выключили вакуумметр; 21. Далее мы развакуумировали камеру, дали барабану остыть в течение 5-10 минут и включили привод вращения; 22. Выдвинули из камеры барабан с подложками и развернули его на 90о; 23. Выгрузили в тару контрольные подложки с двух диаметрально противоположных на барабане подложкодержателей в порядке их расположения по рядам; 24. Затем замерили на каждой из выгруженных подложек удельное сопротивление резистивного слоя. Для этого подложку мы установили в приспособление для измерения удельного сопротивления и сняли показания вольтметра, результаты замера записали в рабочий журнал. Партии подложек, предназначенные для изготовления плат со стабильными резисторами (+-1%) необходимо было: выгрузить из барабана в тару П-477 с фиксацией номеров рядов, произвести отжиг в термостате при температуре (300+-10)оС в течение 60+-5 минут, охладить на воздухе не менее 30 мин, затем выполнить измерение удельного поверхностного сопротивления тех же контрольных подложек, что и до отжига, с записью в рабочем журнале;
25. По результатам измерений мы произвели сортировку и отбраковку подложек по рядам барабана. Если результаты измерений не укладывались бы в один из диапазонов, указанных в таблице, по указанию технолога допускается выполнять измерение 100% подложек с индивидуальной их сортировкой в пределах каждого диапазона. Допускается запись на обратной стороне подложки карандашом результата измерения. При выполнении отжига сортировка и отбраковка подложек выполняется по результатам измерений после отжига. Изготовление тонкопленочной структуры ванадий-алюминий Для изготовления тонкопленочной структуры ванадий-алюминий магнетронным методом нам понадобилось следующее оборудование: Агрегат непрерывного действия 01-НИ-7-006 ДЕМ 3.273.038; пылесос бытовой ГОСТ 10280-83; микроскоп МЕТАМ-Р1 ТУ3-3.1770-83; пинцет с ограниченным захватом П-641; сосуд СК-16 ГОСТ 16024-79; отвертка 78-0359Н 12*1; тара межоперационная П-572; баллон для аргона ГОСТ 21240-89; наконечники для пинцета П-139, 524; скальпель медицинский ГОСТ 21240-89; респиратор ШБ-1 «Лепесток-200» ГОСТ 12.4.028-76; очки защитные ГОСТ 12.4.013-85. Также нам понадобились следующие материалы: мишень алюминиевая МАРКИ А с никелевой вставкой 995 ЯЕО.021.157 ТУ; мишень ванадиевая МАРКИ ВНМ-0 Ф200*5 ТУ-48-4-373-76; азот газообразный 1 класс ОСТ 11050.003-83; вода питьевая ГОСТ 2874-82; аргон газообразный высший сорт ГОСТ 10157-79; воздух класс 1 ГОСТ 17433-80; спирт этиловый ректификованный технический ГОСТ 18300-87; азот жидкий высший сорт ГОСТ 9293-74; шкурка шлифовальная бумажная влагопрочная М20 ПА230*210 ГОСТ 10054-82; перчатки хлопчатобумажные двойные ГОСТ 5007-87; ткани хлопчатобумажные базевой группы арь. 244 ГОСТ 11680-76. Первым этапом нашей лабораторной работы являлась подготовка установки к работе. Для этого мы подали в установку холодную и горячую воду, сжатый воздух, газообразный азот, открыв вентиль на соответствующей магистрали. Затем установили в установку две мишени на первый и второй магнетроны согластно таблице рабочих режимов (табл. 6).
Таблица 6. Рабочие режимы
Затем мы открыли вентиль на баллоне с аргоном, находящемся в шкафу. Установили давление 19,6*104 Па/2 кГс/см2. Далее мы установили при помощи редуктора, расположенного в корпусе установки давление аргона 0,7+-0,1 кГс/см2. Затем мы открыли кран горячей воды в корпусе установки. При этом кран холодной воды должен быть закрыт. Включили установку, поставив тумблер сеть расположенный на блоке 14 (схема 1) в верхнее положение, при этом загорелась сигнальная лампа на блоке 5.
Воспользуйтесь поиском по сайту: ©2015 - 2024 megalektsii.ru Все авторские права принадлежат авторам лекционных материалов. Обратная связь с нами...
|