 |
Современные тенденции в развитии накопителях на жестких дисках
|
|
|
|
Жесткие магнитные диски (ЖМД) являются в настоящее время наиболее распространенным типом носителей информации. ЖМД уступают полупроводниковым устройствам памяти (например динамической памяти произвольного доступа, DRAM) в скорости обмена информации, в энергопотреблении, бесшумности, в механической надежности. Однако эти недостатки покрываются такими важнейшими свойствами ЖМД как неразрушаемость памяти, их емкость, достаточно низкая стоимость, приведенная к одному биту.
Рис. 14.1, на примере дисков IBM, иллюстрирует тенденцию к увеличению емкости жестких дисков. Прогнозируемая емкость к 2006 году для 3.5 дюймовых дисков должна составить около 200 Гбайт, что вполне реально, поскольку в 2004 году де-факто емкость превысила 100 Гбайт.
Емкость накопителя, в свою очередь, определяется плотностью битов. На рис. 14.2, также на примере продукции IBM, проиллюстрирована эволюция плотности информации на жестком
носителе [1], которая в ближайшем будущем должна приблизиться вплотную к суперпарамагнитному пределу, обсуждавшемуся в главе XI, когда магнитная энергия бита становится сопоставимой с тепловыми флуктуациями.
На рис. 1 предисловия показан интерьер накопителя на жестких дисках. С точки зрения микромагнетизма важными элементами дизайна являются свойства материала диска-накопителя, свойства записывающей и считывающей головок накопителя, определяющие многие из перечисленных выше параметров устройства.
 |
На рис. 14.3а схематично изображена работа записывающей и считывающей головок в системе продольной записи. Запись производится индуктивным путем подачей токового импульса в обмотку записи за счет рассеянного поля в зазоре якоря головки. Считывание происходит за счет рассеянного поля на границе битов. При этом используется либо магниторезистивный эффект (MR), либо эффект гигантского магнитного сопротивления (GMR), обсуждавшийся в предыдущих главах. Влияние рассеянного поля соседних битов и внешних помех ослабляется магнитным экраном.
|
|
|
Проблема суперпарамагнитного предела может быть реальной уже при плотности в ~100-200 Гбит/кв.дюйм [1], рис. 14.2. Однако, имеются основания считать, что этот предел будет более высоким для технологии с перпендикулярной намагниченностью, рис.14.3б, чем с продольной намагниченностью. Этот подход базируется на внедрении в качестве носителей стабильных магнитожестких материалов, требующих более мощного магнитного поля для записи. К сожалению,
максимально достижимая напряженность поля, создаваемая пишущей головкой, также ограничена.
Оптимальная толщина магнитного слоя для перпендикулярной геометрии должна быть несколько выше, чем для продольной, поскольку, как мы видели в главе XII, рис. 12.12, именно такое соотношение между высотой и радиусом домена благоприятствует перпендикулярной намагниченности. Таким образом, объем бита в этом случае должен быть выше. Размагничивающее поле в бите в этой геометрии должно быть меньше. С учетом этого оценки показывают, что суперпарамагнитный предел в перпендикулярной геометрии может быть в несколько раз выше, чем в продольной геометрии записи. Поскольку материал носителя с перпендикулярной схемой должен быть достаточно жестким, то обеспечить соответствующие поля записи можно, либо прибегая к дальнейшему уменьшению зазора (до 2 нм, что соответствует размеру молекулы лубриканта), либо применением магнитомягкого подслоя, рис. 12.12в. Современная тенденция к более быстрому уменьшению поперечного размера бита (track width) по сравнению с продольным размером (bit length) иллюстрируется на рис. 14.4.
|
|
|
 |
Еще на порядок увеличить плотность либо продольной, либо поперечной намагниченности можно, если реализовать схему «один бит-одно зерно», рис. 14.5. Например, структура с периодом 50 нм дает нам значение 260 Gb/in2. К сожалению, предлагаемые сейчас методы формирования искусственных сред с элементами размером <40 нм пока слишком дороги. Электронно-лучевая литография позволяет формировать элементы размером 10 нм, но она абсолютно не пригодна для массового производства из-за дороговизны и длительности процесса. К тому же обработка пластин диаметром более 100 мм этим методом сегодня невозможна.
В качестве альтернативы рассматривается метод, использующий голографическую литографию: лазерный луч разделяется на два пучка, которые, отражаясь от зеркал, интерферируют на поверхности субстрата (рис. 14.6). Образованная интерференционная картина представляет собой стоячую волну с периодом, зависящим от длины волны излучаемого лазером света и угла, образованного сходящимися лучами. Фактически - это ряд экспонированных и неэкспонированных полос. Повернув субстрат на 90° и выполнив второе экспонирование, получим необходимую нам сетчатую структуру. Данная методика уже используется для обработки поверхностей площадями до 80 см2, и она без особого труда может быть масштабирована.
.ис.ве льной, поскольку, как мы видели, именно такое соотношение рной намагниченностью
|
| Рис.14.6. Метод голографической литографии. |
|
|
|
