Технічні можливості напівавтоматів для напилення

Технічні можливості напівавтоматів для напилення

Технічні характеристики установки УН-126:

потужність плазмотрону, кВт....................................... не більше 24;

продуктивність напилення, кг/год..................................... 2... 8;

діаметр розпилюваного дроту, мм.................................... 1, 0... 2, 0;

робочий струм плазмотрону, А......................................... 160... 300;

робоча напруга на дузі, В................................................... 60... 80;

витрати плазмоутворюючого газу (аргон), м³/год............ 1, 0... 1, 5;

витрати стисненого повітря (охолоджуючого), м³ /год..... 16... 20;

період коливання плазмотрону, с^-1.................................. 2... 6;

розмір напилюваних деталей, мм, не більше:

діаметр...................................................................... 160;

довжина..................................................................... 800.

Для мікроплазмового нанесення використовується установка МПН-004, яка використовує в якості плазмоутворюючого та захисного газів аргон першого сорту. Вона дозволяє проводити напилення мідним дротом діаметром 0, 3 мм, бронзовим порошком ПГ-АН11 (БрОФ-10-1) фракції 63... 100 мкм та композиційним порошком нікель-графіт (Nі-С 80-20) фракції 63... 100 мкм. До комплекту установки входять джерело живлення з пультом керування, плазмотрон, спеціальний пристрій для подачі дроту.

Характеристика установки мікроплазмового напилення:

-робочий газ.....................................................    Аргон;

-захисний газ...................................................    Аргон;

-потужність, кВт............................................... до 3, 0;

-сила струму, А................................................   10... 50;

-напруга, В.......................................................    до 60;

-витрати плазмоутворюючого газу, дм³/год.. 10... 150;

-витрати захисного газу, дм³/год...................    60... 240;

-продуктивність, кг/год....................................   0, 25... 2, 5;

-діаметр дроту, мм..........................................     0, 15... 0, 3;

-габарити, мм...................................................     0, 5... 1, 0;

-вага, кг...                                                             390x255x205

                                                                                14.

6. 1. 6. Обладнання для нанесення покриття у динамічному вакуумі

Зростаючі вимоги промисловості до якості покриттів, головним чи­ном до їх щільності та міцності зчеплення, призвели до створення ново­го типу обладнання для нанесення плазмових покриттів - напилення в динамічному вакуумі. У поєднані з використанням плазмотронів для. отримання надзвукових струменів та попереднім підігріванням порошку це дозволяє отримати щільність покриттів 99% та міцність зчеплення 140 МПа.

Схема установки для напилення у динамічному вакуумі наведена на рис. 6. 24.

До устаткування такого типу належить установка УН118 (рис. 6. 25) для плазмового напилення у динамічному вакуумі. Вона призначена для плазмового нанесення покриття з металічних та керамічних порошків у розрідженій контрольованій атмосфері для захисту аерогазодинамічних профілів та інших поверхонь, що знаходяться під дією високотемпера­турних струмин і спрацьовування.

Установка складається з водоохолоджуваної вакуумної камери (1), в якій розташована платформа, що викочується з неї, з чотирьохпозиційним столом і трьохкоординатним маніпулятором, на якому закріплено плазмотрон.

Установка має три типи плазмотронів потужністю ЗО, 60 та 100 кВт. Вакуумування камери відбувається блоком вакуумних насосів (2) і (3), що складається з 3-х агрегатів: 2ДНВ-500М, АДЗ-63Д та АВЗ-2Д. Між камерою та блоком насосів встановлено масляний фільтр (10). Установка має два джерела живлення УПС-301 (7) та ВПН-630 (8), два блоки автономного охолодження (5) та фреоновий холодильник (6) типу АВ-30, два двобункерних живильника порошку (12), з шафами керування (16), два пульти керування (14) та (15), блок газопідготовки (13), блок контролю (19), дві шафи керування (18) та (20), стійку керування маніпулятором (17) та камери сухого та мокрого (4) очищення аерозолів.

Рис. 6. 24. Схема установки для плазмового напилення

у динамічному вакуумі:

1 - виріб, що напилюється; 2 - подача води для охолодження;

З - плазмотрон; 4 - подача порошку, що напилюється; 5 – подача

плазмоутворюючих газів; 6 - блок електроживлення; 7 - робот; 8 - механізм

кріплення і обертання деталі; 9 - водоохолодження вакуумної камери;

10 - вакуумний насос; 11 - вакуумна засувка; 12 - фільтр

Після встановлення виробів на чотирьохпозиційний стіл робота установки відбувається в автоматичному режимі: закриваються двері вакуумної камери, включається блок вакуумних насосів та відбувається вакуумування камери до 6, 45 Па (5x10^{-2 мм} рт, ст. ), потім напускається інертний газ до тиску 5... 20 мм рт. ст. При цьому тиску з використанням джерела живлення УПС-301 відбувається іонне очищення деталі. При нанесенні покриття з активних матеріалів перед іонним очищенням проводиться у відповідності з програмою багаторазова продувка камери інертним газом.

Рис. 6. 25. Установка для напилення у динамічному вакуумі УН-118

Після очищення деталь нагрівається до потрібної температури, підвищується тиск напуском інертного газу до 6, 45х10³... 19, 9х10³ Па (50... 150 мм рт. ст. ) і проводиться напилення з використанням джерела живлення ВПН-630.

Плазмоутворюючими газами можуть бути аргон, азот, гелій, водень.

Бункери живильників порошку мають нагріваючі пристрої, які дозволяють підготувати порошок перед напиленням і підтримують необхідну температуру.

Після напилення знов знижується тиск до 6, 45x10²... 2, 58x10³ Па (5... 20 ммрт. ст. ) та проводиться термообробка напиленого шару.

Технічні характеристики установки УН-118:

 Розміри виробу, що напилюється, мм:

довжина....................................................................... 700;

діаметр......................................................................... 400;

Маса, кг........................................................................ 80.

Продуктивність установки по напиленому самофлюсуючому сплаву (типу МіВCrЗіРе), кг/год................................ 0, 1-18, 0;

Робочий тиску камері, Па........................................... 6, 4. 9, 81х10⁴.

Час вакуумування до тиску в камері 6, 4 Па

(5х10^{-2 мм рт. ст}, ), хв, не більше..................................... 8.

Потужність плазмотронів, кВт, не більше................. 30, 60, 100.

Швидкість обертання виробу, с1................................. 0-1, 66.

Швидкість переміщення плазмотрону, мм/с:

вертикальна................................................................. 1, 44-72, 0.

поздовжня.................................................................... 0, 36-18, 0.

Коливання плазмотрону, град/с................................. 1, 0-50, 0.

Витрати газів при тиску 490 кПа, м3, не більше:

водню........................................................................... 0, 8;

азоту, гелію.................................................................. 6, 0;

аргону........................................................................... 7, 0;

газу-носія порошку (Аг, N₂)...................................... 3, 0.

Місткість системи для дистильованої води, л......... 500.

Тиск води, МПа, в межах:

дистильованої............................................................. 0, 1-0, 8;

технічної...................................................................... 0, 2-0, 4.

Витрати дистильованої води у замкненій системі, м³/год,

не менше............................................................................. 2, 0.

Витрати технічної води, м³/год.................................. 8-10.

Напруга живильної трьохфазної мережі, В............... 380.

Потужність, кВА, не більше........................................ 330.

Площа, що використовується установкою, м², не менше 100.

Маса, кг, не більше........................................................ 12000.

Для нанесення покриття з великою міцністю зчеплення та пористістю менше 1% на деталі складної форми створено програмований комплекс УН-130 УХЛ4 " КВАРТ" для плазмового напилення у динамічному вакуумі (рис. 6. 26).

Комплекс складається з п'яти основних модулів: вакуумного, плазмового, внутрішньокамерного устаткування, допоміжного обладнання та системи програмованого керування.

Рис. 6. 26. Загальний вигляд комплексу УН-130 " КВАРТ"  

для плазмового напилення у динамічному вакуумі

Вакуумний модуль здійснює відкачування газів з вакуумної камери до 7 Па, подачу інертного газу та підтримання його тиску у межах, які вимагаються технологічним процесом, очистку газів від дисперсних часток перед форвакуумною станцією.

Плазмовий модуль забезпечує необхідну подачу робочих газів при очищенні деталей перенесеним розрядом, напиленні та термообробці, а також порошкових матеріалів при напиленні.

Внутрішньокамерне устаткування призначене для закріплення деталей, їх обертання та коливання по визначеній програмі, для закріплення плазмотрону та переміщення його відносно деталі.

Допоміжне обладнання призначене для охолодження плазмотрону, вакуумної камери, маніпулятора, виробу та інших пристроїв, очищення газів від дисперсних часток при аерації вакуумної камери.

Система програмованого керування дозволяє проводити технологічний процес обробки деталей у автоматичному режимі по визначеній програмі одношарового або багатошарового градієнтного покриття, виключаючи вплив оператора на якість покриття.

Основні параметри процесу напилення региструються керуючою ЕОМ, обробляються статистичне та фіксуються у паспорті, який роздруковується на кожний виріб.

Технічні характеристики комплексу такі:

продуктивність, кг/год.................................................. 0, 1... 15, 0;

потужність плазмотронів, кВт..................................... 30... 60;

витрати газів, м³/год:

аргон, азот............................................................ 9;

гелій...................................................................... 1. 2;

габарити виробів, що напилюються, мм:

довжина................................................................ 490;

діаметр................................................................. 570;

електрична потужність, що використовується, кВА.... 350;

площа, яка використовується комплексом, м²........... 150;

маса, кг.......................................................................... 200.

Комплекс може бути використаний у авіабудівельній промисловості, транспортному та хімічному машинобудуванні та інших галузях народного господарства.

На базі установки для зварювання в контрольованій атмосфері розроблена установка для плазмового напилення у захисному середовищі УВПН-1. Вона має замкнутий цикл газопостачання та значні розміри робочого простору.

Для зниження вмісту активних газів (кисню, азоту) у зоні нагрівання часток при формуванні покриття використовуються різні типи захисних насадок, які закріплюються на аноді плазмотрону.

 

⇐ Предыдущая22232425262728293031Следующая ⇒

Поделиться:

Воспользуйтесь поиском по сайту: