2.2.5 Базирование на отверстия с параллельными осями
2. 2. 5 Базирование на отверстия с параллельными осями
и перпендикулярную им плоскость
Схема базирования
применяется для обработке деталей, имеющих отверстия с параллельными осями, относительно которых задаются поверхности, подлежащие обработке. К таким деталям можно отнести корпусы различных механизмов, плиты, приборные платы, картеры и другие детали.
| Рис. 51 Конструкции цилиндрического и срезанного (ромбического) пальцев
|
В общем случае заготовка базируется на плоскость и два или три перпендикулярно расположенных к ней отверстия. Базовая плоскость подвергается чистовой обработке, а базовые отверстия обрабатывают с точностью не ниже 8-го квалитета. Точность обработки зависит от точности связанных с этими отверстиями размеров. В качестве базирующих элементов для базирования на плоскость применяют опорные пластины (ГОСТ4743) и в отверстия устанавливаются два пальца (цилиндрический – ГОСТ 12209 и срезанный – ГОС 12210). Общий вид цилиндрического и срезанного пальцев показан на рис. 51.
Базирование на два отверстия с параллельнымиосями
и перпендикулярную им плоскость
Наиболее распространенный вариант базирования на два отверстия с параллельными осями и перпендикулярную им плоскость. Принципиальная схема базирования заготовки на два отверстия с параллельными осями показана на рис. 66. Заготовка 1 базируется на два пальца, цилиндрический 3
и срезанный (ромбический) 4 и на установочную опорную пластину 3.
Применение ромбического пальца связано с тем, что если брать два цилиндрических пальца, то диаметр одного из них должен быть равным
d – Т, где Т – допуск на отклонение межосевого расстояния установки пальцев, рис. 52 «в». В этом случае, при базировании заготовки на такой
палец возможен поворот заготовки относительно левого пальца, большего размером, , и, следовательно, образования большей погрешности базирования.
| Рис. 52 Схема установки заготовки на два отверстия с параллельными осями и перпендикулярную им плоскость
|
При базировании на два пальца с параллельными осями образуется комплект технологических баз, состоящий из установочной, двойной опорной и опорной технологических баз. Рис. 52.
| Рис. 53 Схема базирования заготовки на два отверстия с параллельными осями и перпендикулярную им плоскость
|
Наиболее вероятная погрешность базирования размеров обработки определяется с учетом самых неблагоприятных обстоятельств установки в предположении возможного поворота заготовки при её базировании. Они могут возникнуть в том случае, если при базировании заготовки окажется, что диаметр базирующих пальцев будет самый минимальный, а диаметры базовых отверстий самые максимальные, т. е. выполненные в допустимых пределах.
На рис. 53 для обработки отверстия Ø Do , заготовка базируется на два
отверстия с параллельными осями и перпендикулярную им плоскость
| Рис. 54 Схема к расчету погрешности базирования заготовки на два отверстия с параллельными осями
|
Для расчета принимается, что диаметры пальцев (цилиндрический и ромбический) выполнены по минимальным размерам, соответственно
dmin и
d1min Диаметры базовых отверстий -
Dmax и
D1maх. Рис. 68 «а». В процессе базирования происходит выборка зазоров и заготовка может повернуться относительно некоторой точки «О» на угол
α. За счет поворота заготовки центры базовых отверстий смещаются относительно центров базирующих пальцев на расстояния
ε для цилиндрического пальца и
ε 1 для ромбического пальца. В процессе обработки отверстие формируется в положении, заданном координатами
а и
б (рис. 68) относительно системы
координат, заданной приспособлением (осями симметрии, образованными базирующими элементами приспособления), которые расходятся с действительными полученными размерами а1 и б1.
Для определения погрешности базирования полученных при обработке размеров рекомендуется вычертить схему положения заготовки при базировании, когда погрешности отсутствуют и после поворота заготовки на максимально возможный угол. (рис. 54. ). Расчет погрешностей базирования определяется геометрическим расчетом полученных фигур, образованных заданными размерами и размерами, полученными в результате предполагаемого смещения обработанной поверхности за счет поворота заготовки при базировании
Воспользуйтесь поиском по сайту:
