2.4.4.1 Базирование на два центровых отверстия
2. 4. 4. 1 Базирование на два центровых отверстия
Основное применение такой вариант нашел в технологических процессах обработки валов на токарных и шлифовальных операциях. Деталь устанавливается на два центра: жесткий опорный и вращающийся рис. 62. В процессе базирования формируется комплект технологических баз из осей центровых отверстий – двойная направляющая технологическая база, правое центровое отверстие создает опорную технологическую базу, вторая опорная технологическая база не явная.
Центровые отверстия базируясь на правый и левый центры обеспечивают совпадение оси заготовки с осью центров, что обеспечивает необходимую точность обработки и отсутствие погрешности базирования диаметральных размеров.
Погрешность базирования размера l зависит от точности размеров L и h. При самых неблагоприятных условиях погрешность базирования размера l будет равна сумме допусков на размеры L и h.
| Рис. 49 Схема установки заготовки в центрах «а» и схема базирования «б».
|
.
𝛏 бL 
Где: 
допуск надлину L заготовки;
допуск на глубину центрового отверстия.
Если вместо жесткого опорного центра поставить плавающий центр, то вторую составляющую 
можно исключить/
2. 4. 4. 2 Базирование на три центровых отверстия
| Рис. 50 Схема установки заготовки на три центровых отверстия «а» и схема базирования «б».
|
б) 
|
Базирование на три центровых отверстия может быть использовано для установки заготовок сложной геометрической формы, состоящей из двух и более простых геометрических форм. Например, детали, типа «тройник», имеющей геометрическую форму в виде двух цилиндров, соединенных в середине одного цилиндра под прямым углом. Базирование на три центровых отверстия применяется только в том случае, если этого требует конструкция самой детали.
На рис. 50 дан пример установки и базирования заготовки «тройник» на три
центровых отверстия для обработки отверстия Ø D. Для установки используются жесткий центр и два выдвижных (плавающих) центра. Очевидно, что жесткий центр и выдвижной центр, расположенные на одной горизонтальной оси создают основную технологическую базу – двойную направляющую. Коническая поверхность жесткого центра определяет опорную технологическую базу (аналогично базированию на два центровых отверстия). Вторую опорную технологическую базу (явную) дает второй выдвижной центр.
Погрешность базирования размеров обработки определяется в результате анализа положения измерительной и технологической баз каждого размера. В рассматриваемом примере отверстие Ø D расположено на пересечение осей симметрии тройника и отстоит от левого торца заготовки на расстоянии l. Из предыдущего примера (рис. 62) известно, что измерительная база этого размера имеет тенденцию изменять свое положение в пределах допуска на глубину зацентровки h, то есть погрешность базирования размера l будет равна допуску на глубину центрового отверстия Т h. Изменение положения левого торца заготовки приведет к смещению центра пересечения осей симметрии и к пропорциональному смещению геометрического центра обрабатываемого отверстия.
Воспользуйтесь поиском по сайту:
