2.2.2 Базирование по наружной цилиндрической поверхности и перпендикулярной её оси плоскости.
Применяется для базирования деталей, имеющих различную геометрическую форму при условии, что деталь имеет вышеуказанные поверхности, а размеры поверхности, подлежащие обработке, заданы от наружной цилиндрической поверхности (её оси) и перпендикулярной её оси плоскости. Современное производство накопило большой опыт применения этой схемы базирования для конструктивно отличных деталей. Наиболее применяемые способы и варианты их исполнения приводятся на рис. 23
Базирование во втулку
Втулки для базирования заготовок по наружной цилиндрической поверхности устанавливают в корпус приспособления по посадке Н7/р6. Заготовка базируется во втулку либо по посадке с зазором H7/g6, либо по скользящей посадке H7/h7 или по переходной посадке H7/js7. Это значит, что при базировании заготовок во втулку необходимым условием является точн ость базовой наружной цилиндрической поверхности заготовки. обработананой с точностью не ниже 8-го квалитета.
| Базирование во втулку с гарантированным зазором
|
| Базирование во втулку по переходной посадке
|
| Базирование на длинную призму
|
| Базирование на короткую призму
|
| Базирование по наружной цилиндрической поверхности и перпендикулярной её оси плоскости
|
| Базирование в самоцентрирующиеся патроны жестких заготовок
|
| Базирование в самоцентрирующиеся патроны не жестких заготовок
|
| Рис. 23 Способы и варианты базирования деталей по наружной цилиндрической поверхности и перпен
дикулярной её оси плоскости
|
Основными размерами, определяющими комплект технологических баз будут высота базирующей поверхности втулки h, длина базовой поверхности заготовки H и диаметр фланцевой поверхности заготовки Sф (на рисунке 24 не показан). Исходя из соотношений высоты втулки, длины базовой поверхности и диаметра фланца заготовки могут применятся два комплекта технологических баз: двойная направляющая + опорная + вторая опорная технологические базы (ДНТБ+ОТБ+ВОТБ) и установочная + двойная опорная + опорная технологические базы (УТБ+ДОТБ+ОТБ).
Базирование во втулку с зазором
Наличие небольшого зазора в соединении наружной цилиндрической поверхности заготовки с базирующим отверстием втулки обеспечивает возможность компенсации погрешности взаимного положения базовых поверхностей., таких, как отклонение от перпендикулярности. На рис. 24 в заготовке обрабатывается отверстие Dо, выдерживая расстояние между осями - l. В зависимости от технических требований, после обработки необходимо получить заданную точность межосевого расстояния
, определенные требования к отклонению положения оси от перпендикулярности технологической базе и отклонению от параллельности оси симметрии другой технологической базе. Эти требования могут быть предъявлены как в комплекте, так и с выделением какого либо отдельного элемента, например, точность межосевого расстояния, либо нескольких элементов, например, межосевого расстояния и отклонения от перпендикулярности.
На основании этих требований к точности взаимного положения оси обрабатываемого отверстия Dо (отклонение от перпендикулярности и отклонение от параллельности оси относительно технологических баз) выбирается вариант базирования: - в длинную втулку или в короткую втулку.
Базирование в длинную втулку по посадке с зазором обеспечивает в первую очередь требования к отклонению от параллельности оси базовой поверхности заготовки (ДНТБ) и во вторую очередь требования к отклонению от перпендикулярности опорной технологической базы (ОТБ). Рис. 24 «а и b».
Базирование в короткую втулку обеспечивает за счет зазора более тесный контакт базовой торцовой поверхности заготовки с фланцем втулки, что лишает заготовку трех степеней свободы и создает установочную технологическую базу, а не опорную, как в первом случае. Рис. 29 «с и d». В обоих случаях третья технологическая база для обрабатываемой заготовки будет не явной
| Рис. 24 Схемы базирования заготовок во втулку с зазором:
a - схема базирования заготовки в длинную втулку; b - комплект технологических баз при базировании заготовки в длинную втулку; c - схема базирования заготовки в короткую втулку; d – комплект технологических баз при базировании заготовки в короткую втулку.
|
.
Базирование во втулку по переходной посадке
Базирование во втулку по переходной посадке предполагает совпадение осей базовой наружной цилиндрической поверхности заготовки с базирующим отверстием втулки за счет образования небольшого натяга в их соединении. Заготовка устанавливается во втулку более жестко и не имеет возможности свободного в пределах зазора компенсирующего поворота, что несколько меняет расположение опорных точек на схеме базирования (они указываются на оси симметрии рис. 30 « b» и « d» ).
При базировании в длинную втулку наиболее «жестко» выполняются технические требования к параллельности осей отверстия и базовой поверхности заготовки (базового диаметра d ) и к точности межосевого расстояния l. Требования к перпендикулярности оси обрабатываемого отверстия технологической базе (торец фланца заготовки) в этом случае практически остается неизменным и даже может получится с несколько большей погрешностью за счет того, что обрабатываемая заготовка будет
| Рис. 25 Схемы базирования заготовок во втулку по переходной посадке:
a - схема базирования заготовки в длинную втулку; b - комплект технологических баз при базировании заготовки в длинную втулку; c - схема базирования заготовки в короткую втулку; d – комплект технологических баз при базировании заготовки в короткую втулку.
|
ориентироваться строго по оси базируемой заготовки.
При базировании в короткую втулку условия базирования за счет небольшой длины контакта базовой и базирующей поверхностей будут более «мягкими», допускающими небольшой поворот и более плотное прилегание установочной технологической базы к базирующей поверхности фланца втулки (рис. 25 «с и d»). В этом случае, следует ожидать выполнения технических требований к перпендикулярности оси обрабатываемого отверстия с одновременным выполнением требований к параллельности оси отверстия к оси базовой поверхности заготовки. Третья технологическая база, как и при базировании во втулку с зазором, так же будет не явной.
| Рис. 26 Применение явной технологической базы
|
Для того, чтобы третья технологическая база стала явной, обрабатываемая заготовка должна иметь конструктивный элемент, , определяющий положение отверстия в этой координатной плоскости. Пример применения явной технологической базы при базировании рассмотренной выше заготовки показан на рис. 26. В этом случае, положение обрабатываемого отверстия определяется положением шпоночного паза, ось симметрии которого совпадает с осью симметрии отверстия. Поэтому, при обработке отверстия необходимо предусмотреть на приспособлении ещё одну опору, которая ориентирует паз и отверстие по одной линии симметрии.
Расчет погрешности базирования при базировании
заготовки во втулку
Расчет погрешности базирования определяется для наиболее не благоприятных условий, то есть наибольшая допустимая погрешность базирования.
При базировании заготовки втулку по посадке с зазором погрешность базирования образуется за счет изменения размера в пределах допуска базовой поверхности заготовки, допуска на изготовление базирующей поверхности втулки и минимально допустимого зазора в их соединении, т. е:
= 
+ Smin;
Где; ТD – допуск на диаметр базирующего отверстия втулки;
Тd - допуск на диаметр базовой наружной цилиндрической поверхности заготовки;
Smin - минимальный гарантированный зазор в соединении базовой наружной цилиндрической поверхности заготовки и базирующей поверхности.
Погрешность базирования глубины обработки отверстия 
во всех случаях равна допуску на размер «n» обрабатываемой заготовки
= 
;
Где; - допуск на длину ступени заготовки (расстояние от технологической базы до измерительной базы размера n.
Погрешность базирования диаметра обрабатываемого отверстия Dо не анализируется, так как его точность целиком зависит от точности обрабатывающего инструмента.
Воспользуйтесь поиском по сайту:
